2024年10月30日 14:26:20消息稱三星將于2025年初從ASML引進High-NA EUV光刻機
《科創(chuàng)板日報》30日訊，據(jù)報道援引消息人士稱，三星電子將從ASML引進首臺High-NA EUV光刻機EXE:5000，預計2025年初到貨。半導體設(shè)備安裝通常需要較長測試時間，該光刻機預計最快2025年中旬開始運行。High-NA EUV為2納米以下先進制程所需設(shè)備，韓國業(yè)界預期，三星也將正式啟動1納米芯片的商用化進程。 (ET News)
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