財(cái)聯(lián)社9月14日訊（記者 王碧微）光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)突破？今日，蘇大維格(300331.SZ)一則自稱“已實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)銷售”的互動(dòng)平臺(tái)回復(fù)引爆市場(chǎng)，公司股價(jià)午后短時(shí)間內(nèi)躥升至漲停。不過，多位業(yè)內(nèi)受訪人士均表示，此光刻非彼光刻。一直以來，蘇大維格主要生產(chǎn)的是激光直寫光刻機(jī)，而非制造芯片用的掩膜光刻機(jī)。

蘇大維格今天下午在投資者平臺(tái)表示：“公司光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)向國(guó)內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售，并已實(shí)現(xiàn)向日本、韓國(guó)、以色列等國(guó)家的出口；同時(shí)，公司向國(guó)內(nèi)相關(guān)芯片光刻機(jī)廠商提供了定位光柵尺部件。”該消息發(fā)出后，不少投資者直呼蘇大維格是“國(guó)產(chǎn)之光”，市場(chǎng)情緒激烈。

不過，受訪的多位業(yè)內(nèi)人士均表示，蘇大維格生產(chǎn)的光刻機(jī)并非大眾所理解的芯片制造用光刻機(jī)。

CINNO Research研究總監(jiān)劉雨實(shí)向記者介紹，“蘇大維格的光刻機(jī)是指激光直寫光刻機(jī)，與傳統(tǒng)掩膜光刻相比，激光直寫精度較差但成本也較低，多用于封裝等領(lǐng)域，具有較高的靈活性?！?/p>

蘇大維格半年度財(cái)報(bào)顯示，公司的高端智能裝備包括直寫光刻、3D光刻、投影/掃描光刻、納米壓印光刻設(shè)備等，并未提及芯片生產(chǎn)用的掩模光刻產(chǎn)品。

據(jù)中航證券研報(bào)，泛半導(dǎo)體光刻技術(shù)可分為直寫光刻和掩模光刻。其中，直寫光刻精度較低，多用于IC后道封裝、低世代線平板顯示、PCB等領(lǐng)域；掩模光刻目前主流形式為投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工藝，后道先進(jìn)封裝，以及中高世代線的FPD生產(chǎn)。目前，掩模光刻技術(shù)主要由ASML等海外廠商掌握，而直寫光刻在國(guó)內(nèi)還有芯碁微裝(688630.SH)等多家公司突破。

記者留意到，蘇大維格2023半年報(bào)中曾提及，“公司光刻設(shè)備已向國(guó)內(nèi)某芯片龍頭企業(yè)實(shí)現(xiàn)銷售，并向國(guó)內(nèi)廠商提供應(yīng)用于IC芯片投影式光刻機(jī)的核心部件定位光柵尺產(chǎn)品”，與今天在投資者平臺(tái)的回復(fù)內(nèi)容類似。不過，今天公司在互動(dòng)平臺(tái)的表述，“光刻設(shè)備”一詞變成了“光刻機(jī)”，引發(fā)市場(chǎng)遐想。

半年報(bào)表述

今天投資者平臺(tái)表述

“我們業(yè)內(nèi)一般稱直寫光刻設(shè)備為光雕機(jī)，用‘光刻機(jī)’稱呼直寫光刻設(shè)備是非常不專業(yè)的行為，不排除是有意為之。”一位業(yè)內(nèi)人士向記者這樣表示道。

對(duì)于蘇大維格生產(chǎn)的是否為直寫光刻設(shè)備、以光刻機(jī)來稱呼直寫光刻設(shè)備有何目的等問題，財(cái)聯(lián)社記者今日多次嘗試致電公司方面，但公司的投資者熱線始終為“已關(guān)機(jī)”狀態(tài)。目前，財(cái)聯(lián)社記者已向公司證券部郵箱發(fā)送采訪函，但截至發(fā)稿暫未收到回復(fù)。